マグネトロンスパッタリングの適用- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

マグネトロンスパッタリングの適用

マグネトロンスパッタリングは、PVDテクノロジーにおける低温堆積の効率的な方法です。マグネトロンスパッタリング中、電子は暗い磁場カバーまたは特別に付着したアノードによって吸収され、得られた基質の温度は従来のスパッタリングの温度よりも低くなります。他の温度に敏感な材料は、基質として堆積します。 1998年、Teel Coating Ltd.は、低温でマグネトロンスパッタリングにより高品質のスズおよびTICNコーティングを堆積する技術を提案し、基質温度を70°C未満に下げることができ、同様のコーティングの可能なアプリケーション範囲を拡大することができました。近年、英国のラフバラ大学は、室温でマグネトロンスパッタリング中の基質温度を350から500°Cに約150°Cに下げ、スズとCRNコーティングを人工歯型表面に正常に塗布し、溶接接触ヘッドの表面を5から10から10回増加させます。低温堆積方法とプロセスに関する研究は非常に意味があり、有望であることがわかります。