スパッタリングは、物理蒸着（PVD）の一般的な手法です。 中国硬質フィルム真空コーティング機 、薄膜コーティングを製造する方法の1つ。標準的なスパッタリングでは、必要な純粋な材料のターゲットと、通常はアルゴンである不活性ガスを使用します。
材料が単一の純粋な化学元素である場合、原子はその形でターゲットから外れ、その形で堆積します。
ただし、不活性ガス（アルゴン）の代わりに、または（より一般的には）それに加えて、酸素や窒素などの非不活性ガスを使用することもできます。これが行われると、イオン化された不活性ガスがターゲット材料の蒸気雲と化学的に反応して分子化合物を生成し、それが堆積膜になります。たとえば、酸素ガスで反応的にスパッタされたシリコンターゲットは酸化シリコン膜を生成する可能性があり、窒素ガスで反応的にスパッタされたシリコンターゲットは窒化ケイ素膜を生成する可能性があります。
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