PVD(物理蒸着技術は、薄膜材料を調製するための主要な技術の1つです。真空条件下で、材料はガス状の原子、分子、またはイオンへの部分的なイオン化に気化され、次に、反射防止、反射、保護伝導性、磁気伝導性、絶縁性、耐食性、耐酸化性、放射線防護および設置装飾およびフィルム材料技術の他の特別な機能。薄膜材料の作成に使用される材料は、PVDコーティング材料と呼ばれます。スパッタリングコーティングと真空蒸着コーティングの2つが最も人気のあるPVDです DLCコーティング機メーカー コーティング方法。
スパッタコーティングと蒸発コーティングの比較
スパッタリング堆積技術は、優れた再現性と制御可能な膜厚を備えており、均一な厚さの大面積基板材料に使用できます。作製したフィルムは、高純度、緻密性、基板材料との密着性が高いという利点があり、薄膜材料を作製するための主要な技術のひとつとなっています。各種スパッタリング薄膜材料が広く使用されており、高付加価値機能材料の需要は年々高まっています。スパッタリングターゲットは、市場で最も広く使用されているPVDコーティング材料になっています。
蒸発コーティングは、シンプルで便利で、操作が簡単で、フィルムをすばやく形成できます。プロセス製造の観点から、蒸着材料の製造の複雑さは、スパッタリングターゲットの製造の複雑さよりもはるかに低く、蒸着コーティングは、小さなサイズの基板材料のコーティングによく使用されます。
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