真空コーティング機のコーティング性能にどのような要因が影響しますか？- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

真空コーティング機のコーティング性能にどのような要因が影響しますか？

どの要因がコーティング性能に影響します真空コーティングマシン？

真空コーティング機が良い膜をコーティングしたい場合、真空コーティング、基本目標距離、蒸発温度、基質温度、残留ガス圧力、その他の要因など、多くの要因が通常の状態にあることを保証する必要があります。特定の要因には偏差があります。真空コーティング機のコーティング層の性能に影響します。以下は、真空コーティングマシンのコーティング性能に影響する要因を詳細に説明する真空エディターです。私はそれがあなたを助けることができることを願っています：

1。蒸発率

蒸発速度のサイズは、堆積膜に大きな影響を与えます。低堆積速度によって形成されるコーティング構造はゆるく、大きな粒子を簡単に堆積させることができるため、コーティング構造のコンパクトさを確保するために、より高い蒸発速度を選択することは非常に安全です。真空チャンバー内の残留ガスの圧力が一定の場合、基板を砲撃するという砲撃率は一定の値です。したがって、より高い堆積速度を選択した後、堆積膜に含まれる残留ガスが減少し、それにより、残留ガス分子と蒸発した膜材料の粒子との間の化学反応が減少します。したがって、堆積したフィルムの純度を改善することができます。堆積速度が高すぎると、フィルムの内部ストレスが増加し、フィルム層の欠陥が増加し、深刻な場合にフィルム層の割れさえも増加する可能性があることに注意する必要があります。特に、反応性蒸発の過程で、反応ガスと蒸発した膜材料粒子が十分に反応できるように、より低い堆積速度を選択できます。もちろん、異なる材料蒸発には異なる蒸発速度を使用する必要があります。低堆積速度が映画のパフォーマンスにどのように影響するかの実用的な例として、反射映画の堆積です。たとえば、フィルムの厚さが600x10-8cmで、蒸発時間が3秒の場合、反射率は93％です。ただし、同じフィルムの厚さで蒸発速度が低下すると、フィルムの堆積を完了するのに10分かかります。この時点で、映画の厚さは同じです。ただし、反射率は68％に低下しました。

2。基板温度

基質温度は、蒸発コーティングにも大きな影響を及ぼします。高い基質温度で基質表面に吸着された残留ガス分子は簡単に除去されます。特に、水蒸気分子の除外がより重要です。さらに、高温での物理的な吸着から化学的吸着への移行を促進することは容易ではなく、粒子間の結合力を増加させる。さらに、蒸気分子の再結晶温度と基質温度の差を低下させる可能性があるため、フィルム基質界面の内部応力が減少または排除されます。さらに、基質温度はフィルムの結晶状態に関連しているため、アモルファスまたは微結晶コーティングは、基質上の低いまたは加熱条件の下で容易に形成される傾向があります。逆に、温度が高い場合、結晶コーティングを生成するのは簡単です。基質温度を上げることは、コーティングの機械的特性の改善にも有益です。もちろん、蒸発したコーティングの再蒸発を防ぐには、基質温度が高すぎるべきではありません。

3。フィルムパフォーマンスに対する真空チャンバーの残留ガス圧の影響

真空チャンバー内の残留ガスの圧力は、膜性能に大きな影響を与えます。圧力が高すぎる場合、残留ガス分子は蒸発した粒子と衝突するのが簡単であるだけでなく、基板上で撮影する人々の運動エネルギーが減少し、フィルムの接着に影響します。さらに、過剰な残留ガス圧力は、膜の純度に深刻な影響を与え、コーティングの性能を低下させます。

4。蒸発温度が蒸発コーティングに及ぼす影響

フィルム性能に対する蒸発温度の影響は、温度の関数としての蒸発速度によって示されます。気化温度が高くなると、気化の熱が低下します。フィルム材料が蒸発温度を超えて蒸発すると、温度がわずかに変化しても、フィルム素材の蒸発速度の急速な変化を引き起こす可能性があります。したがって、蒸発源が加熱されたときに大きな温度勾配を避けるために、フィルムの堆積中の蒸発温度を正確に制御することが非常に重要です。崇高に簡単なフィルム素材の場合、フィルム素材自体がヒーターとして選択されており、蒸発などの測定も非常に重要です。。

上記の4つの側面は、真空コーティング機のコーティング層の性能に影響する一般的な要因であり、それらは従来の影響要因でもあります。真空コーティング機のコーティングプロセス中に、これらの要因が正常状態にあることを確認する必要があります。