マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンとは何ですか？それはどのように機能しますか？- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンとは何ですか？それはどのように機能しますか？

マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンは、広範囲の基質への薄膜堆積に使用される最先端の技術です。しかし、それは正確には何ですか、そしてそれはどのように機能しますか？

その中心に、マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンは、ターゲット材料、通常は金属または合金、およびコーティングされる基質を含む高蒸気室です。このプロセスには、高エネルギーイオンによる標的材料の砲撃が含まれます。高エネルギーイオンは、その表面から原子を取り除き、基質に堆積し、薄膜を形成します。

マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンの重要な成分の1つはマグネトロンです。これは、チャンバー内で高度にイオン化されたプラズマを生成するプラズマ源の一種です。マグネトロンは、カソード（ターゲット材料）、アノード、および磁場で構成されています。磁場は、プラズマを限定し、チャンバー内のガス分子のイオン化を強化し、より効率的なスパッタリングに役立ちます。

このプロセスは、チャンバーを下って高い真空、通常は10^-6 Torrであることから始まります。次に、標的材料はイオンによって砲撃され、原子をノックオフし、基質に堆積する粒子のフラックスを作成します。堆積速度と膜特性は、イオンフラックス、ターゲット電圧、およびチャンバー内の圧力を調整することで制御できます。

マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンの利点の1つは、その汎用性です。金属、合金、セラミック、半導体など、幅広い材料を堆積するために使用できます。また、硬度、耐摩耗性、光学特性などのユニークな特性を持つことができる多層コーティングの作成にも使用できます。

マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンのもう1つの利点は、その高レベルの均一性です。チャンバー内の磁場は、ターゲットの表面全体にイオンフラックスを均等に分布させ、フィルムのより均一な堆積速度と厚さに分配します。

結論として、マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシンは、航空宇宙、電子機器、光学系などの産業で広く使用されている非常に洗練された技術です。幅広い材料を堆積させ、多層コーティングを作成し、非常に均一なフィルムを生産する能力は、研究開発と大規模な生産に不可欠なツールになります。

DCマグネトロンスパッタリング堆積システム

マルチアークイオンおよびスパッタリングコーティングは、広範囲の色で堆積できます。堆積プロセス中に反応性ガスをチャンバーに導入することにより、色の描画をさらに強化することができます。装飾的なコーティングに広く使用されている反応性ガスは、窒素、酸素、アルゴン、またはアセチレンです。装飾コーティングは、コーティングの金属とガスの比率とコーティングの構造に応じて、特定の色の範囲で生成されます。これらの要因は両方とも、堆積パラメーターを変更することで変更できます。

堆積前に、部品が洗浄されているため、表面にほこりや化学的不純物がありません。コーティングプロセスが開始されると、すべての関連プロセスパラメーターは、自動コンピューター制御システムによって継続的に監視および制御されます。

•基板材料：ガラス、金属（炭素鋼、ステンレス鋼、真鍮）、セラミック、プラスチック、宝石。

•構造タイプ：垂直構造、＃304ステンレス鋼。

•コーティングフィルム：多機能メタルフィルム、複合フィルム、透明な導電性フィルム、反射率発生フィルム、電磁シールドフィルム、装飾フィルム。

•フィルムカラー：マルチカラー、ガンブラック、チタンゴールデンカラー、ローズゴールデンカラー、ステンレススチールカラー、紫色、濃い黒、濃い青など。

•フィルムタイプ：TIN、CRN、ZRN、TICN、TICRN、TINC、TIALN、DLC。

•生産中の消耗品：チタン、クロム、ジルコニウム、鉄、合金ターゲット。平面ターゲット、円筒形のターゲット、ツインターゲット、反対のターゲット。

応用：

•ガラスカップ、ガラスランプ、ガラスアートワークなどのガラス製品。

•プラスチックの電話シェル、電話部品。

•モザイクタイル。

•EMIフィルムなどの電子産業。